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医学
制取无牙下颌印模时,远中的范围应当
制取无牙下颌印模时,远中的范围应当
admin
2018-03-03
51
问题
制取无牙下颌印模时,远中的范围应当
选项
A、盖过磨牙后垫全部
B、暴露磨牙后垫
C、盖过磨牙后垫1/2
D、盖过磨牙后垫的1/3
E、盖过磨牙后垫的1/2~2/3
答案
A
解析
取模时下颌托盘的高度和宽度与上颌的托盘相同,其长度应盖过磨牙后垫。全口义齿基托后缘应盖过磨牙后垫的1/2或全部。
转载请注明原文地址:https://www.kaotiyun.com/show/Xiit777K
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