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上颌两侧磨牙全部缺失,设计支架式可摘义齿修复,为防止义齿下沉压迫黏膜,制作时要求
上颌两侧磨牙全部缺失,设计支架式可摘义齿修复,为防止义齿下沉压迫黏膜,制作时要求
admin
2018-08-27
17
问题
上颌两侧磨牙全部缺失,设计支架式可摘义齿修复,为防止义齿下沉压迫黏膜,制作时要求
选项
A、腭杆中部与模型应有0.8~1mm距离
B、腭杆中部与模型应有1.2~1.5mm距离
C、腭杆中部与模型应有0.1mm距离
D、腭杆中部与模型应有0.3~0.5mm距离
E、腭杆中部与模型应完全贴合
答案
A
解析
转载请注明原文地址:https://www.kaotiyun.com/show/5DOj777K
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专业实践能力
口腔医学技术(103)
卫生专业技术资格初级(士)
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